编号：FTJS07013
篇名： 氧化石墨烯还原过程中产生的缺陷表征
作者： 彭伟军 王承二 胡宇 宋少先
关键词： 氧化石墨烯 石墨烯 化学还原 缺陷
机构：武汉理工大学资源与环境工程学院 矿物资源加工与环境湖北省重点实验室
摘要： 采用Hummer法对鳞片石墨进行氧化得到氧化石墨,之后经过超声剥离制备氧化石墨烯,最后在水合肼的作用下还原制备石墨烯。采用红外光谱、紫外-可见光光谱、拉曼光谱和原子力显微镜对还原前后的氧化石墨烯进行表征。发现化学还原可以除去氧化石墨烯表面一部分含氧官能团,但同时也引入一些缺陷,还原之后石墨烯的sp^2域的平均尺寸减小。AFM照片分析发现含氧官能团去除之后会在原来的位置产生空洞,从而导致石墨烯缺陷增加。