中国粉体网5月2日讯纳米材料沉积设备是我国支持发展的重大技术装备。记者从市经信委获悉，近日，我市的赛瑞达电子装备股份公司研制成功一种新的石墨烯纳米材料化学气相沉积（CVD）设备，单管一次可产6英寸石墨烯20片，代表国际先进水平。
石墨烯是已知最薄、最坚硬、导电性能最好的纳米材料，CVD设备则是制备单层大面积石墨烯纳米材料的关键装备。赛瑞达公司研制的新一代CVD设备，采用不锈钢真空腔室和石英管真空腔室的双真空管工艺环境，通过加长恒温区和改进石英舟的结构设计，提高了设备产能，每管产量可达20片，设备材料制备过程无污染，大大提高了国内纳米材料CVD设备的技术水平。
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2013-05-02
