石墨烯由于其优异的性能,例如高比表面积、高导电性、良好的热稳定性和优异的机械强度,引起了人们极大的研究兴趣.但是石墨烯本身不具有固有孔隙.为了使其具有固有孔隙,各种多孔石墨烯材料被制备出来,例如,全碳型多孔石墨烯、掺杂型多孔

介绍了光刻法石墨烯的制备方法,分析了光刻工艺过后石墨烯方阻升高的不良机理,并给出了相应的优化方案。首先,根据半导体工艺研发制程完成石墨烯图案化工艺方案,并对工艺方案进行有效优化。接着,分析了石墨烯光刻法图案化后方阻升高的机理

通过常压化学气相沉积法(APCVD)在铜箔表面制备了高质量的石墨烯。采用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨率透射电镜(HRTEM)、拉曼光谱仪、紫外─可见光谱仪(UV-vis)和X射线光电子能谱仪(XPS)

石墨烯材料以其优异的本征力学性能,被认为是新一代金属基复合材料中理想的增强体。特别是,由于调控石墨烯内禀缺陷的种类和含量可以较为简便地实现对其本征力学性能的精确"剪裁",使得石墨烯增强金属基复合材料具有广阔的发展空间。综述了

石墨烯是近几年发展起来的一种非常有潜力的新型碳材料,具有优异的物理和化学性能,在物理、化学、电子器件、能源以及材料等领域具有广泛的应用。综述了目前制备石墨烯的几种方法:机械剥离法、氧化还原法、液相剥离法、电化学剥离法、超临界

以氧化石墨烯(GO)分散水溶液为对象,采用动态光散射技术研究了pH、电解质、天然有机物以及不同尺寸等环境因素对其稳定性和凝聚特性的影响。结果表明:pH升高可提高水中GO的稳定性;投加电解质会产生压缩双电层作用,导致GO发生凝

石墨烯是一种由碳原子以sp^2杂化方式形成的蜂窝状平面薄膜,是一种只有一个原子层厚度的二维材料,所以又叫单原子层石墨。由于具备良好的强度、韧性,导电、导热性能及光学特性,石墨烯在物理学、材料学、电子信息、计算机、航空航天等领

由于特殊的电学、热学、力学等性质,石墨烯自发现以来备受关注。石墨烯具有优异的物理和化学性质,在储能、传感器、催化剂载体和电极材料等领域具有广阔的应用前景。研究人员在石墨烯制备技术方面做出了大量的努力,制备尺寸均一、缺陷较少的

利用金相显微镜(OM)、摩擦磨损试验机、扫描电镜(SEM)对Al-15Si-4Cu-Mg复合材料微观组织形貌、摩擦磨损性能、磨痕表面形貌进行表征和分析。研究添加不同含量石墨烯对Al-15Si-4Cu-Mg复合材料微观组织及摩

采用微波水热法制备了CdS/rGO纳米复合光催化剂,通过XRD、FTIR、XPS、SEM、TEM对其结构和形貌进行了表征,结合UV-Vis和密度泛函(DFT)计算对异质界面的电荷转移机制进行了研究。结果表明所得复合材料中Cd